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產品介紹：
磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備，適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜（銅，鋁等）功能性薄膜，設備采用先進的磁控濺射鍍膜技術，配備直流、射頻磁控濺射系統，適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質膜等。
技術參數：
| 產品名稱 | 磁控濺射卷繞鍍膜機 | |
| 主要參數 | 卷膜條件 鍍膜材料：PET 和無紡布 適用制膜：軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質膜等。 基材厚度：125～300μm 有效鍍膜寬幅：≤800 mm 最大卷繞直徑：Φ400 mm 卷繞芯軸內徑：4 寸 基材卷繞速度：1～2 m/min 基材卷繞張力：30 ～ 200 N 張力系統：交流伺服 濺鍍方式：單面 真空條件 極限真空（空載、潔凈）：8×10-4Pa 恢復真空時間（空載、清潔）：105Pa ～ 5×10-3Pa≤60 min 系統真空漏率：1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控濺射陰極數量：3 個 膜均勻性偏差：≤±10% | |
